Vidrio Ito para blindaje emi y pantallas táctiles
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El vidrio con recubrimiento conductor ITO se fabrica esparciendo una capa de dióxido de silicio (SiO2) y óxido de indio y estaño (comúnmente conocido como ITO) mediante tecnología de pulverización catódica magnetrónica sobre sustrato de vidrio en condiciones de vacío total, lo que hace que la cara recubierta sea conductora, ITO es un compuesto metálico con buena transparencia y propiedades conductoras.
Datos técnicos
Espesor de vidrio ITO | 0,4 mm, 0,5 mm, 0,55 mm, 0,7 mm, 1 mm, 1,1 mm, 2 mm, 3 mm, 4 mm | ||||||||
resistencia | 3-5Ω | 7-10Ω | 12-18Ω | 20-30Ω | 30-50Ω | 50-80Ω | 60-120 Ω | 100-200 Ω | 200-500Ω |
espesor de recubrimiento | 2000-2200Å | 1600-1700Å | 1200-1300Å | 650-750Å | 350-450Å | 200-300Å | 150-250Å | 100-150Å | 30-100Å |
Resistencia de vidrio | |||
Tipo de resistencia | baja resistencia | resistencia normal | alta resistencia |
Definición | <60Ω | 60-150 Ω | 150-500Ω |
Solicitud | El vidrio de alta resistencia se utiliza generalmente para la protección electrostática y la producción de pantallas táctiles. | El vidrio de resistencia ordinaria se usa generalmente para pantallas de cristal líquido tipo TN y antiinterferencias electrónicas (blindaje EMI) | El vidrio de baja resistencia se usa generalmente en pantallas de cristal líquido STN y placas de circuito transparentes. |
Test funcional y test de fiabilidad | |
Tolerancia | ±0,2 mm |
Alabeo | espesor<0,55 mm, alabeo≤0,15 % espesor>0,7 mm, alabeo≤0,15 % |
ZT verticales | ≤1° |
Dureza | >7H |
Prueba de abrasión del revestimiento | 0000#lana de acero con 1000gf,6000 ciclos, 40 ciclos/min. |
Prueba anticorrsión (prueba de niebla salina) | Concentración de NaCL 5%: Temperatura: 35°C Tiempo de experimento: 5min cambio de resistencia≤10% |
Prueba de resistencia a la humedad | 60℃,90 % de humedad relativa,Cambio de resistencia de 48 horas≤10% |
Prueba de resistencia a los ácidos | Concentración de HCL: 6 %, temperatura: 35 °C Tiempo de experimento: cambio de resistencia de 5 min ≤ 10 % |
Prueba de resistencia a los álcalis | Concentración de NaOH: 10 %, temperatura: 60 °C Tiempo de experimento: cambio de resistencia de 5 min ≤ 10 % |
Estabilidad térmica | Temperatura: 300°C tiempo de calentamiento: 30 min cambio de resistencia≤300% |
Procesando
capa de Si02:
(1) El papel de la capa de SiO2:
El objetivo principal es evitar que los iones metálicos del sustrato de sosa y calcio se difundan en la capa de ITO.Afecta a la conductividad de la capa de ITO.
(2) Espesor de la película de la capa de SiO2:
El espesor de película estándar es generalmente de 250 ± 50 Å
(3) Otros componentes en la capa de SiO2:
Por lo general, para mejorar la transmitancia del vidrio ITO, una cierta proporción de SiN4 se dopa en SiO2.
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